21、上頜義齒遠(yuǎn)中游離端基端頰側(cè)應(yīng)
A覆蓋整個(gè)上頜結(jié)節(jié)
B覆蓋上頜結(jié)節(jié)的2/3
C覆蓋上頜結(jié)節(jié)的1/2
D覆蓋上頜結(jié)節(jié)的1/3
E讓開(kāi)上頜結(jié)節(jié)
22、上頜義齒遠(yuǎn)中游離基托后緣的兩側(cè)應(yīng)伸展到
A磨牙后墊
B上頜結(jié)節(jié)
C翼上頜切跡
D腭小凹
E軟硬腭交界稍后的軟腭上
23、可摘局部義齒基托與天然牙關(guān)系的表述中，正確的是
A基托應(yīng)進(jìn)入基牙鄰面倒凹區(qū)
B前部基托邊緣不應(yīng)位于舌隆突上
C基托應(yīng)與牙面密合，有一定的壓力
D基托近齦處要做緩沖
E以上均不正確
24、覆蓋在骨性突起處的基托組織面要緩沖的目的不是為了
A防止基托翹動(dòng)
B防止基托折裂
C防止粘膜壓痛
D增加基托強(qiáng)度
E患者感覺(jué)舒適
25、以下關(guān)于局部義齒基托表達(dá)中正確的是
A磨牙后墊處應(yīng)做緩沖
B粘膜支持式義齒的基托可適當(dāng)縮小
C塑料基托的溫度傳導(dǎo)作用好于金屬基托
D前牙缺失的義齒均須有唇側(cè)基托
E基托與天然牙軸面非倒凹區(qū)接觸，可起卡環(huán)對(duì)抗臂作用
26、局部義齒固位體的數(shù)量一般為
A2-4個(gè)
B5-6個(gè)
C7-8個(gè)
D盡可能少
E盡可能多
27、以下表述正確的是
A摘戴義齒時(shí)，固位體對(duì)基牙會(huì)有側(cè)方壓力，會(huì)損傷基牙
B摘戴義齒時(shí)，固位體對(duì)基牙會(huì)有側(cè)方壓力，但不會(huì)損傷基牙
C摘戴義齒時(shí)，固位體對(duì)基牙應(yīng)無(wú)側(cè)方壓力，不損傷基牙
D摘戴義齒時(shí)，固痊體對(duì)基牙應(yīng)有側(cè)方壓力，但不應(yīng)損傷基牙
E以上都不正確
28、基牙的觀測(cè)線是
A牙冠解剖外形最突點(diǎn)的連線，不隨觀測(cè)方向改變而改變
B牙冠解剖外形最突點(diǎn)的連線，隨觀測(cè)方向改變而改變
C牙冠軸面最突點(diǎn)的連線，不隨觀測(cè)方向改變而改變
D牙冠軸面最突點(diǎn)的邊線，隨觀測(cè)方向改變而改變
E組織表面最突點(diǎn)畫(huà)出的連線，不隨觀測(cè)方向改變而改變
29、具有一型觀測(cè)線的基牙
A近缺隙側(cè)倒凹區(qū)小，遠(yuǎn)聞缺隙側(cè)倒凹區(qū)大
B近缺隙側(cè)倒凹區(qū)小，遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)也小
C近缺隙倒凹區(qū)大，遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)小
D近缺隙側(cè)倒凹大，遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)也大
E近缺隙側(cè)與遠(yuǎn)離缺隙側(cè)均無(wú)倒凹區(qū)
30、具有二型觀測(cè)線的基牙
A近缺隙側(cè)倒凹區(qū)小，遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)大
B近缺隙倒凹區(qū)小，遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)也小
C近缺隙倒凹區(qū)大，遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)小
D近缺隙側(cè)倒凹區(qū)大，遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)也大
E近缺隙側(cè)與遠(yuǎn)離缺隙側(cè)均無(wú)倒凹區(qū)
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