1、當(dāng)上下牙列接觸在一起，前牙呈正常覆蓋，后牙面間呈尖窩交錯(cuò)的關(guān)系，此時(shí)上下頜關(guān)系是最為廣泛的接觸稱正中位。

　　2、樁的長度為根長的1/2～1/3，根尖部保留3～5mm 左右，寬度為根管的1/3。

　　3、冠邊緣有三種情況，即眼緣之上，眼緣平齊，齦緣下。

　　4、貴金屬鑄造金屬全冠頸部肩臺(tái)通常為0. 35～0. 5mm 寬，非貴金屬鑄造金屬全冠頸部肩臺(tái)通常為0. 5～0. 8mm 寬。

　　5、合金的熔點(diǎn)必須高于磁粉的熔點(diǎn)170℃～270℃。

　　6、上前牙冠樁直徑約1. 5～2. 5mm，下前牙約為1. 1～1. 5rnm，上下后牙約為1. 4～2. 7mm。

　　7、金屬烤瓷冠唇緣牙體預(yù)備形式可成直角或135°凹面肩臺(tái)，寬約1.0mm。

　　8、全瓷冠，應(yīng)作直角肩臺(tái)，寬約1. 0 mm。

　　9、咬合緊，牙冠短，最佳修復(fù)方案是鑄造全冠。

　　10、黏著力和黏固劑量的厚度成反比。

　　11、金屬一烤瓷結(jié)合力由化學(xué)結(jié)合力、機(jī)械結(jié)合力、范德華力組成。化學(xué)結(jié)合力是金屬一烤瓷結(jié)合力的主要組成部分。

　　12、正常牙冠軸面突度可以維持牙頸部齦組織張力。

　　13、鑄造全冠牙體預(yù)備邊緣形式最常見的為帶淺凹形肩臺(tái)(凹面形)。

　　14、面嵌體洞的洞型在2mm 以上，嵌體的固位較好。

　　15、嵌體箱狀洞型的所有軸壁應(yīng)向外展2～5°;洞緣預(yù)備成45°斜面。

　　16、牙體缺損最常見的原因是外傷和齲壞。

　　17、下頜最大側(cè)方運(yùn)動(dòng)范圍正常約12mm。

　　18、臨床中常用35%膠狀磷酸酸蝕。

　　19、修復(fù)體的固位力主要來自摩擦力和黏著力。

　　20、根管治療完成后1—2 周后進(jìn)行修復(fù)治療。

　　21、黏固劑最大厚度一般不超過30mm。

　　22、牙列缺損三種修復(fù)方法包括固定義齒、可摘義齒和種植義齒。

　　23、復(fù)合固定橋一般包括≥4 個(gè)的牙單位。

　　24、固定橋臨床冠根比例以1：2 或2：3 最理想1：1 是最低限度。

　　25、牙周膜可確定基牙的數(shù)量。

　　26、固位體類型包括冠內(nèi)、冠外和根內(nèi)固位體。

　　27、烤瓷熔附橋體是臨床上應(yīng)用最廣泛的橋體類型。

　　28、懸空式橋體與貓膜之間至少3mm。

　　29、解剖式牙尖斜度為30°或33°。

　　30、非解剖式牙尖斜度為0°。

　　31、半解剖式牙尖斜度為20°。

　　32、下頜基托后緣應(yīng)覆蓋磨牙后墊的1/3～2/3

　　33、可摘義齒塑料基托厚2mm，邊緣厚2.5mm，圓鈍。

　　34、可摘義齒金屬厚約0.5mm。

　　35、牙合支托應(yīng)薄而寬，呈匙形，寬約磨牙頰舌徑的1/3 或前磨牙頰舌徑的1/2。

　　36、三臂卡環(huán)多用于牙冠外形較好，無明顯傾斜的基牙。

　　37、圈形卡環(huán)多用于遠(yuǎn)中孤立的磨牙上。

　　38、回力卡環(huán)常用于后牙游離端缺失，基牙為前磨牙或尖牙，牙冠外形較短或錐形牙。

　　39、對(duì)半卡環(huán)常用于前后有缺隙、孤立的前磨牙或磨牙上。

　　40、聯(lián)合卡環(huán)適用于單側(cè)缺牙，基牙牙冠短而穩(wěn)固。

　　41、延伸卡環(huán)用于松動(dòng)或牙冠外形差的基牙。

　　42、連續(xù)卡環(huán)用于牙周夾板。

　　43、倒鉤卡環(huán)常用于倒凹區(qū)在支托的同側(cè)下方的基牙。

　　44、Ⅰ型觀測(cè)線為基牙向缺隙相反方向傾斜時(shí)所畫。

　　45、Ⅱ型觀測(cè)線為基牙向缺隙方向傾斜時(shí)所畫。

　　46、Ⅲ型觀測(cè)線為基牙的遠(yuǎn)、近缺隙側(cè)均有明顯的倒凹。

　　47、RPI 卡環(huán)包括近中牙合支托、鄰面板、I 桿。

　　48、大連接體有腭桿、腭板、舌桿、舌板。

　　49、前腭桿離開眼緣是6mm。

　　50、后腭桿位于上頜硬區(qū)之后，顫動(dòng)線之前，兩端微彎向第一、第二磨牙之間，過后易引起惡心，對(duì)敏感者其位置可適當(dāng)向前調(diào)整。

　　51、側(cè)腭桿位于上頜硬區(qū)兩側(cè)，離開齦緣4～6mm。

　　52、舌桿距牙齦緣3～4mm。

　　53、消除轉(zhuǎn)動(dòng)性不穩(wěn)定的方法包括增加對(duì)抗平衡固位體、增加平衡距、消除支點(diǎn)。

　　54、調(diào)整有均凹法和調(diào)凹法。

　　55、肯氏一類是后牙雙側(cè)游離端缺牙。

　　56、肯氏二類是后牙單側(cè)游離端缺牙。57、肯氏三類是一側(cè)后牙缺失，缺隙前后都有天然牙。

　　58、肯氏四類是牙弓前部牙缺失，天然牙在缺隙的遠(yuǎn)中。

　　59、托盤與牙弓內(nèi)外側(cè)應(yīng)有3～4mm 間隙，其翼緣距鉆膜皺璧約2mm。

　　60、全口義齒是黏膜支持式義齒。

　　61、上下頜牙槽嵴將口腔分為口腔前庭和口腔本部。

　　62、口腔前庭的解剖標(biāo)志有唇、頰系帶，顴突，上頜結(jié)節(jié)，頰側(cè)翼緣區(qū)，遠(yuǎn)中頰角區(qū)。

　　63、口腔本部上為腭頂，下為口底。

　　64、切牙乳頭中點(diǎn)距上頜中切牙唇面8～10mm，兩側(cè)尖牙連線通過切牙乳頭中點(diǎn)前后1mm 范圍。

　　65、當(dāng)前牙缺失后，切牙乳頭向前移動(dòng)約1. 6mm。

　　66、上頜義齒后緣應(yīng)位于愕小凹后1 mm 。

　　67、無牙頜分區(qū)包括主承托區(qū)、副承托區(qū)、邊緣封閉區(qū)、緩沖區(qū)。緩沖區(qū)有上頜隆突、顴突、上頜結(jié)節(jié)的頰側(cè)、切牙乳頭、下頜隆突、下頜舌骨峪、牙槽嵴上的骨尖。

　　68、義齒表面分為組織面、咬合面、磨光面。

　　69、全口義齒的固位原理:吸附力，表面張力，大氣壓力。

　　70、全口義齒印模的要求有組織受壓均勻、適當(dāng)擴(kuò)大印模面積、采用功能性印模、保持穩(wěn)定的位置。頜位關(guān)系的記錄包括垂直關(guān)系和水平關(guān)系的記錄。

　　71、確定垂直距離的方法包括息止頜位垂直距離減去息止牙合間隙。

　　72、水平頜位關(guān)系記錄有哥特式弓描記法.直接咬合法，肌監(jiān)控儀法。

　　73、上唇高線至牙合平面的距離為上中切牙切2/3 高。

　　74、下唇高線至牙合平面的距離為下中切牙切1/2 高。

　　75、全口義齒上和尖牙唇面通常與腭皺側(cè)面相距10. 0±1mm，上前牙切緣在唇下露2mm。

　　76、全口義齒排牙上領(lǐng)中切牙切緣、尖牙牙尖落在牙合平面上。

　　77、全口義齒排牙上4 的頰尖，上5 的頰舌尖，上6 的近中舌尖均與牙合平面接觸

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